環拋機機床誤差與元件加工精度之間的關系分析
作者:MARK    發布于:2020-04-12 00:39:23    文字:【】【】【
摘要:環拋機機床誤差與元件加工精度之間的關系分析

      昨天看到一篇文章,關于平面快速拋光機床的的誤差對元件加工精度的影響規律(詳見本文底部附件),有所啟發,今天來討論一下環拋機床誤差與元件加工精度的關系,我只提出幾個問題。

1、是否只有絕對平的膠盤才能加工出高精度元件?

咋一看,好像很正確,但是這是一種絕對的理想主義。元件發熱變形、瀝青膠層受力形變、校正盤的作用、校正盤自身磨削、元件受力變形等等很多的因素被剔除了。

2、那有沒有一種情況,環拋機大盤精度不太好,也能做出高精度元件?

答案是肯定的,如果大家對國外機床有所了解和使用,會遇到這種情況。核心是機床自身的一些小閉環系統能夠補償元件精度,這些小系統及參數反饋控制技術,才是真正的技術所在,我現在也在致力于此。

3、環拋機機床精度越高,元件精度也能越高?

   答案是當然肯定的。

4、那么環拋機機床精度提高是否是元件精度提高的唯一途徑?

   答案是否定的。舉個例子,光刻機刻出來的線寬是3納米,難道光學元件的精度能達到甚至高于3納米?工藝在光學加工中的重要性可以彌補機床精度的不足。


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